真空镀膜机真空室形变带来的影响

为尽量减小真空镀膜机真空室形变带来的影响，我们将导轨、丝杆等传动件固定于一个刚性的中间层上，其与真空室底壁之间采用点、线、面活性支撑，以吸收和隔离形变，并设置形变补偿调节机构，在系统抽真空之前，参照有限元计算提供的理论数据预设适当的补偿量，以使其在真空状态下达到平衡。

为了验证有限元计算的结果，对真空室的形变和补偿进行了测试。首先，将四只千分表***在工作台安装基点的真空壁外侧，当真空室由大气抽到真空时，记录各千分表的变化量，经处理后为用激光自准直仪调整设备形变补偿。

由水平调整的自准直仪发出一束激光穿过真空室的玻璃窗照射固定于工作台上的反射镜，在大气环境下调整设备形变补偿调节机构，使反射光束进入自准直仪接收视场，记录两维角度偏差。

按有限元计算的真空状态下的补偿量再次调整，显然，此时的反射光束已远离自准直仪接收视场，但一旦真空室进入真空状态，反射光束又重新进入自准直仪的接收视场，记录此时的两维角度偏差。前后两次显示的两维角度偏差基本吻合。

工作台运动副的润滑及对真空环境的影响工作台的扫描是处于真空室环境下的频繁运动，除用滚动代替滑动来降低摩擦系数外，在导轨、丝杆等运动副之间采取良好的润滑是保证刻蚀装置长时间正常运行的必要条件。

真空中的润滑的方式通常有镀固体润滑膜和直接使用润滑剂等镀膜容易***导轨的运动精度，且工艺复杂。

为此，我们测试了一种市场商品――二硫化钼润滑剂的润滑效果，将该润滑剂直接喷涂在运动副表面，并用四极质谱仪分析了该润滑剂在真空中挥发出的气体的主要成分。

真空镀膜机薄膜均匀性概念

1.厚度上的均匀性：也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看（也即是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜机的均匀性现已相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，也即是说关于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何妨碍。

2.化学组分上的均匀性：即是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于标准过小而很简单的发生不均匀特性，SiTiO3薄膜，假如镀膜进程不科学，那么实践外表的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的份额，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技能含量地点。

3.晶格有序度的均匀性：这决议了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技能中的热点问题。

真空镀膜机溅镀的原理

以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子炮击资料外表，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子能够直流辉光放电(glowdischarge)发生，在10-1—10Pa真空度，在两极间加高压发生放电，正离子会炮击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。

正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体品种压力等有关。溅镀时应尽也许保持其安稳。任何资料皆可溅射镀膜，即便高熔点资料也简单溅镀，但对非导体靶材须以射频(RF)或脉冲(pulse)溅射;且因导电性较差，溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2，非金属<5W/cm2

二极溅镀射：靶材为阴极，被镀工件及工件架为阳极，气体(Ar气Ar)压力约几Pa或更高方可得较高镀率。

磁控溅射：在阴极靶外表构成一正交电磁场，在此区电子密度高，进而进步离子密度，使得溅镀率进步(一个数量级)，溅射速度可达0.1—1um/min膜层附着力较蒸镀佳，是现在有用的镀膜技能之一。