PVD超硬质涂层（工模具）真空镀膜机平板智能显示器的真空镀膜技术

随着科技的发展，计算机、电视机、手机、办公室自动化设备等，对平板显示器件的需求急剧增长，极大的促进了各类平板显示器件的发展。由于平板显示器的兴起，催生起更多真空镀膜技术的发展，今天我们就来谈谈真空镀膜设备在平板显示中的发展和应用。

市面上有很多生产平板显示器的各类型厂商，都会用到真空镀膜技术，其实生产的ITO膜镀膜生产线设备是在浮法玻璃上采用真空磁控溅射技术，孪生阴极，中频溅射技术，并配以的控制系统，镀制SO2/ITO膜层，生产过程全部自动，连续进行。

真空镀膜设备镀膜过程的均匀性到底多重要?

真空镀膜设备镀膜过程的均匀性到底多重要？ 厚度均匀性主要取决于： 1、基片材料与靶材的晶格匹配程度；2、基片表面温度；3、蒸发功率，速率；4、真空度；5、镀膜时间，厚度大小。组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。晶向均匀性：1、晶格匹配度;2、基片温度;3、蒸发速率. 对于不同的溅射材料和基片，参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否控温，能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术，已经比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。

真空镀膜机附着力说明了什么

附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力，也是保证器件经久耐用的重要因素。真空镀膜设备溅射原子能量比蒸发原子能量高1-2个数量级。真空镀膜机高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的热能，部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层，而且，在真空镀膜设备成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗，清除了附着力不强的溅射原子，净化且基片表面，增强了溅射原子与基片的附着力，因而溅射Al膜与基片的附着力较高。