真空镀膜机的真空室该如何设计呢?

真空镀膜机相比大家都存有疑惑，今天来讨论一下的是关于真空镀膜设备真空室的设计问题，要是您有兴趣了解的话可以和宝瑞钛金一起来看看下面的内容。

真空镀膜技术是在真空条件下采用物理或者化学方法，使物体表面获取所需膜体，真空镀膜技术根据其采用方法的不同科分成蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积以及分子束外延等，这次分析的镀膜设备采用的是磁控溅射镀膜。

真空室是真空设备的一个主要组成部位，真空镀膜设备真空室设计主要考虑的就是密封性和可靠性，结构必须要合理，真空设备的材料生产都是在真空室内进行的，材料对真空度的影响要小，设计不能马虎，要注意一些问题。

真空磁控溅射镀膜机用户设置具体设置

按“用户设置”钮进入真空磁控溅射镀膜机的用户设置界面，里面的数值除了时间参数可以根据机器运行情况作适当调整外，其余参数经调试设定后一般不作修改。各参数功能如下：

主辊加速时间设定：用于设定主辊从低速度0m/min加速至高速度400m/min的所需时间。单位：5秒。当输入数值为4时，加速时间是20秒。

主辊减速时间设定：用于设定主辊从高速度400m/min减速至低速度0m/min的所需时间。单位：5秒。

收卷张力零速保持：用于设定零速张力保持时，收卷的力矩输出值。

放卷张力零速保持：用于设定零速张力保持时，放卷的力矩输出值。

编码器辊直径输入：此数值为编码器辊直径的实际测量值。此数值必须正确无误，以确保设备运行过程的稳定性。

放卷初径误差值正设定：用于设定卷绕系统启动运行时，“放卷初始卷径输入”值允许高于实际测量值的误差值。

放卷初径误差值负设定：用于设定卷绕系统启动运行时，“放卷初始卷径输入”值允许低于实际测量值的误差值。

摆辊动作时间设定：用于设定摆臂在自动控制模式时，摆辊电眼检测到信号后摆臂自动往外退的动作时间。

镀膜行业发展的趋势

当今镀膜行业制作方式主要有两种，一种是化学气象沉积，一种是化学镀膜（CVD），一种是物***象沉积，也就是真空镀膜（PVD）。

化学镀膜是把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应所需其他气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在化学薄膜的过程中，容易产生溶液污染，如果镀层表面杂质多，镀出来的效果不好。

化学镀膜需要的反应温度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基体材料是无法受此高温，及时硬质合金，虽然能经受高温，但在化学镀膜制作的环境下由于高温也会造成晶粒粗大，引起脆性相，性能变坏。如果在硬质合金上镀TiN，晶体扩散出来的碳会与溶液发生反应形成脱碳层，该层韧性差，抗弯强度低，造成刀具使用寿命缩短。

真空镀膜机很好的解决了化学镀膜产生的一系列问题。真空镀膜是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电技术，利用其他放电是靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及反应产物沉积在工件上。

所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，解决了化学镀膜中的溶液污染问题，不会产生***或污染物质，镀出来的膜层硬度更高，耐磨性和腐蚀性好，性能更稳定。真空镀膜工艺处理的温度可以控制在150℃~500℃以下，适用于多种基体材料，可制备多姿多彩的膜层，镀制硬质合金刀具可使其寿命提高2~10倍。

镀膜设备工艺要求

镀膜设备工艺要求： 真空度不得低于103PA，避免呈现褐色条纹或铝层厚度不均表象;操控好体系张力，敞开冷却体系，避免薄膜受热呈现拉伸变形;准确操控卷取速度(280～320m/min)、送铝速度(0.4～0.7m/min?2mm铝丝)及蒸腾舟加热电流，以取得商品请求的铝层厚度(100～300A°);可预先在薄膜上涂布必定干量的底胶，并充沛枯燥，再经真空镀铝，可进步铝层与薄膜的结合力。然后在铝膜上涂布必定量的维护树脂，避免铝层氧化蜕变。经此技术构成的镀铝薄膜，耐摩擦，且不易蜕变。