影响镀膜机磁控靶点火电压的几个因素

气体压力对点火电压的影响：在磁控靶溅射镀膜工艺过程中，由于磁控靶的阴-阳极间距一经确定就是一个大体不变的值，工作气体的压力在一定的(例如0.1Pa~10Pa)范围内变化可能会对点火电压产生较大的影响，总的变化趋势为：随着工作气体的压力的逐步增大，磁控靶点火电压相应降低。不同的磁控靶、不同材质的靶材，靶启辉点火的工作气体压强不尽相同。

电源对点火电压的影响：在同等条件下，选用射频靶电源比选中频或直流靶电源，磁控靶阴极点火电压和工作(溅射)电压都会要降低;选用射频、中频正弦半波或脉冲靶电源，比选低频率同类波形靶电源，阴极点火电压和工作(溅射)电压均会要降低;

五金装饰膜离子镀膜机有哪些特点

该设备是一种、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。五金装饰膜离子镀膜机是一种、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。

真空电弧离子镀膜的原理是基于冷阴极自持弧光放电等离子体蒸发、电离镀料，结合脉冲偏压技术，提高沉积粒子能量和活性，增强膜层的各项性能。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面上进行镀膜；可以镀金属膜，氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化铬及镍、铬、铜等化合物膜、多层超硬膜、多元化合物膜，还可以镀氮化钛掺金膜等。电弧离子镀膜广泛应用于工具、模具的超硬涂层，汽车轮毂、高尔夫球具、钟表、酒店用品、卫浴洁具、灯具、眼镜镜架、五金制品、陶瓷和玻璃等的装饰涂层等领域。

至成镀膜机厂家着力改进圆形电弧蒸发源，同时着力开发矩形平面电弧蒸发源，均已装配新机。

真空镀膜机实验设备的主要用途真空镀膜技术分析

真空镀膜机实验设备主要用于大专院校、科研单位、实验和研制之用。根据工艺要求研究出不同种类、不同规格、多功能的实验装置，或为某产品需要特研制的设备。

本公司从事真空镀膜机设计生产，有着丰富的镀膜技术及设备的设计制造经验。是集设备生产与技术服务于一体的高科技企业。本司提供多种型号多弧，磁控，中频离子真空镀膜机，并可为客户量身订制型号真空镀膜机并提供从设备制造、安装调试到生产工艺的一站式服务。本公司生产的系列装搭生产线、系列高低温、燃油、电热烘干箱、系列环保喷台等产品的单位。广泛用于汽配、摩配、鞋业、工艺品、电器、机械等。是电镀、电泳、喷漆、喷塑行业中不可缺少的设备。

磁控溅射镀膜机的工作原理是怎样的？公司拥有一支从事多年表面处理设备设计、并具有实践经验的技术***及优良素质的施工***。为满足技术的不断进步及参与大型电镀工程涂装工种的建设，我公司与***多名有时间经验的工程师及电镀添加剂骨干企业保持着密切技术联系与合作，可以针对客户要求，提供表面处理工艺及设备设计，提供设备的制造、安装、调试及的***服务。

真空镀膜设备多弧离子镀膜工艺

真空镀膜设备多弧离子镀膜工艺不仅避免了传统表面处理的不足，且各项技术指标都优于传统工艺，在五金、机械、化工、模具、电子、仪器等领域有广泛应用。催化液和传统处理工艺相比，在技术上有哪些？ 1、多弧离子镀膜不用电、降低了成本、成本仅为多弧离子镀膜镍的二分之一，真空镀膜机多弧离子镀膜铬的三分之一，不锈钢的四分之一，可反复利用，大大降低了成本。 2、多弧离子镀膜易操作、工艺简单、把金属基件浸入兑好的液体中“一泡即成”，需要再加工时不经任何处理。