蚀刻技术的一般过程

（１）蚀刻技术的分类Ａ．化学蚀刻Ｂ．电解蚀刻

（２）化学蚀刻的一般工艺流程预蚀刻→蚀刻→水洗→浸酸→水洗→去抗蚀膜→水洗→干燥

（３）电解蚀刻的一般工艺流程入橹→开启电源→蚀刻→水洗→浸酸→水洗→去抗蚀膜→水洗→干燥。

工艺流程

　　***法：工程根据图形开出备料尺寸-材料准备-材料清洗-烘干→贴膜或涂布→烘干→***→ 显影→烘干-蚀刻→脱膜→OK

　　网印法：开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→丝网印→蚀刻→脱膜→OK

蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。它可通过***制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。

1.蚀刻件的清洗，

　　蚀刻完毕以后要及时将蚀刻件水洗干净，必要时用稀释的中和溶液中和，因为蚀刻液都是有很强腐蚀性的液体。如果残留在蚀刻工件的表面，将来会造成蚀刻产品的腐蚀***或变色，所以水洗的工序很重要，一定要重视。

　　2.耐蚀防护层的清除

蚀刻制件经清洗干净后要吹干，然后用的方法去除保护涂层，如果是采用粘贴的有机膜，可以直接成片剥离;如果是涂料或油墨，用有效的溶剂或化学溶液溶解清除。

　　3.表面精饰

　　蚀刻后的制件可根据需要及设计要求进行表面精饰。如果要求表面光洁的，可进行电解抛光，一方面可以彻底清除防蚀材料等残留物，也可以去除蚀刻过程附在表面的腐蚀产物。另外，通过抛光提高表面的光亮度。如果需要平光或哑光的，则采用哑光处理。

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标牌在完成蚀刻上漆后还往往要进行必要的后期处理，比如抛光、药白、仿古做旧、清漆保护等工艺。的后期处理对于提高产品档次，增加产品附加值等有着重大意义。

就目前的蚀刻标牌生产工艺来说，存在着工序流程偏多，整体效率不高、环保效果不佳等诸多现实问题。作为标牌人，我们应该在简化掩膜制作，改进蚀刻原理和方式、实现智能化上漆等方面做出积极的探索和突破。