单工位旋转喷淋清洗机

根据权利要求1所述的单工位旋转喷淋清洗机，其特征在于：所述主体包括清洗槽(4)，所述清洗槽(4)位于顶壳(1)的内部中间，所述清洗槽(4)的顶端对应于顶壳(1)的内部设置有旋转喷块(12)。

根据权利要求2所述的单工位旋转喷淋清洗机，其特征在于：所述顶壳(1)的内部两侧设置有喷头(2)，所述底座(6)的两侧对应于操作门(7)的位置处设置有支杆(5)。

根据权利要求4所述的单工位旋转喷淋清洗机，其特征在于：所述顶壳(1)的一侧设置有操作柜(11)，所述操作柜(11)的表面设置有操作按钮(10)。

根据权利要求4所述的单工位旋转喷淋清洗机，其特征在于：所述底座(6)的一侧中间设置有电机(9)，所述电机(9)的底端对应于底座(6)的一侧设置有空心管(8)。

转动自喷清洗机介绍 1.机器设备特性 1.1本机器设备依据待洗零件类型多，总数少的特性，选用单工位式清洗、烘干的方法； 1.2零件经人力手推式进到清洗室，布局在清洗腔房间内的自喷管对产品工件作大流量自喷，遮盖无盲点； 1.3清洗选用持续喷洗式，清洗冲洗力强悍。 此方式适用去除空气氧化膜或有机物。由于化合物在单晶硅片表面滞留的時间较为短，对反映必须一定時间的清洗实际效果不太好。在喷洗全过程中所应用的化学***非常少，对操纵成本费及生态环境保护有益。 伴随着集成电路芯片工艺加工工艺连接点愈来愈，对具体生产制造的好多个阶段也明确提出了新规定，清洗阶段的必要性日渐突显。 清洗的至关重要则是因为伴随着特点规格的持续变小，半导体材料对杂质成分愈来愈比较敏感，而半导体设备中难以避免会导入一些顆粒、有机物、金属材料和金属氧化物等空气污染物。为了更好地降低杂质对处理芯片合格率的危害，具体生产制造中不仅必须提升 一次的清洗，还必须在基本上所有制性质程前后左右都经常的开展清洗，清洗流程约占总体流程的33%。

实际证实等同功率状况下，低频时易于激起空化。即频率越低，空化作用成果越好，但噪音越大。反之，频率越高，空化作用成果越差，全自动清洗机也认为它的噪音越小。清洗液温度：清洗的温度是影响清洗速度主要因素，恰当的进步清洗液的温度，可加强空化才能，延长清洗光阴，但超越肯定的温度，因为蒸汽压力相应增添反而使空化作用降落。