化学抛光比较适用于SUS304和SUS316不锈钢的抛光处理，适用于批量大的零部件，可以快速去除表面毛刺、杂质，批峰，使不锈钢表面平整，光亮，持久如新。 化学抛光是靠化学抛光液对金属表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、批峰、毛刺，浸蚀整平的一种完全的化学处理工艺方法。  化学抛光的过程是通过人为的控制金属表面选择性的溶解而使金属表面达到整平和光亮的金属加工过程。而选择性的溶解，又是指被抛光面的金相学的、结晶学的以及几何学的不均匀性受到不均匀的溶解，凸出部溶解多，而凹谷处溶解很少之意，结果表面就由凹凸不平而变得平整光亮。

同电解抛光比较，化学抛光的优点是：不需外加电源，可以处理形状更为复杂的零件，生产等，但是化学抛光的表面质量，一般略低于电解抛光，溶液的调整和再生也比较困难，往往抛光过程中会析出氧化氮等***气体。

化学抛光是在不供电情况下产生抛光效果，其抛光原理与利用电流作用的电解抛光在本质上没有太大差别。

化学方法抛光设备简单，能够处理直径比较小的细管、带有深孔的形状复杂的零件。多数金属的化学抛光溶液都采用各种酸，生产过程中散发出大量酸雾污染环境，在使用上受到一定的限制。

化学抛光具有更光滑的微观表面和反光率，使设备不粘壁、不挂料、易清洗，能清除工件表面污垢和油脂。它在筛选过滤机械、石油化工反应釜、卫生及建筑装饰等领域有着广泛的应用。

化学抛光的原理是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。

化学抛光可以靠化学抛光液的自发化学反应，在不借助电力和人力的条件下，自动把待抛光的工件提高表面光洁度，可以达到镜面效果。我们也可以简单的理解：化学抛光就是用化学把东西变亮。

首一阶段是化学抛光时金属表面现象的几何凸凹的整平，去除较粗糙的表面不平度，获得平均为数微米到数十微米的光洁度；第二阶段是晶界附近的结晶不完整部分的平滑化，去除微小的不平，在0.1～0.01μm，相当于光波长的范围。可将阶段称为宏观抛光或平滑化，把第二阶段称为微观抛光或光泽化。化学抛光的优点是化学抛光设备简单，不需要什么特殊设备，只需要一个盛抛光液的玻璃杯和夹持试样的夹子就可以了。如果用细薄磨料片切割的试样，切割后不需要砂纸磨光，即可直接抛光。有些非导体材料也可以用化学抛光，非导体嵌镶的试样也可以直接抛光。化学抛光也可以处理形状比较复杂的零件。