化学抛光的原理：金属试样表面各组成相的电化学电位不同，形成了许多微电势，在化学溶液中会产生不均匀溶解。在溶解过程中试样面表层会产生一层氧化膜，试样表面凸出部分由于粘膜薄，金属的溶解扩展速度较慢，抛光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能达到十分理想的要求。

在化学抛光过程中，金属零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解，且前者要强于后者。由于零件表面微观的不一致性，表面微观凸起部位优先溶解，且溶解速率大于凹下部位的溶解速率；而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行，只是其速率有差异，结果使金属零件表面粗糙度得以整平，从而获得平滑光亮的表面。化学抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷，从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力。

化学抛光时，溶解速度随着抛光液温度的提高而显著地增加。此外，强氧化性酸（如浓、等）在高温时氧化作用也会显著提高。化学抛光中往往产生氢气，这是抛光具有氢脆敏***材料时必须注意的问题。另外，抛光液温度高达100～200℃时，还会产生退火作用。为了把氢脆和退火作用的影响减小到低，就必须在适宜的温度范围内选择尽可能短的抛光时间。

在化学抛光时，由于这些酸的溶解和氧化作用会同时发生，故多数情况下都是把抛光液加热到较高温度再进行化学抛光。需要提高温度再进行化学抛光的金属有钢铁、镍、铅等，若温度低于某一定值，就会出现无光的腐蚀表面，故存在一个形成光泽面的临界温度，在临界温度以上的一定温度范围内，抛光效果好。

众所周知，化学抛光能改善金属的光学性质(反光系数或光反射率)和机械性能，减小金属之间的摩擦系数，提高金属在冷作状态下的塑性变形能力，增大某些磁性材料的导磁系数，消除冷发射现象等。

化学抛光是一种特殊条件下的化学腐蚀，它是通过控制金属表面选择性的溶解而使金属表面达到整平和光亮的金属加工过程。所谓选择性的溶解，是指被抛光面的金相学的、结晶学的以及几何学的不均匀性受到不均匀的溶解，凸出部溶解多，而凹谷处溶解很少之意，结果表面就由凹凸不平而变得平整光亮。电解化学抛光