化学抛光效果一般要比电解抛光效果差，在化学抛光中，由于材料的质量不均匀，会引起局部电位高低不一，产生局部阴阳极区，形成局部短路的微电池，使阳极发生局部溶解。而在电解抛光中由于外加电位的作用可以完全消除这种局部的阴极区，进行的电解，因此效果更好。

化学抛光除了能得到物理、化学清洁度的表面外，还能除去不锈钢配件表面的机械损伤层和应力层，得到机械清洁度的表面，这有利于防止零件的局部腐蚀，提高机械强度、延长零件使用寿命。

化学抛光具有更光滑的微观表面和反光率，使设备不粘壁、不挂料、易清洗，能清除工件表面污垢和油脂。它在筛选过滤机械、石油化工反应釜、卫生及建筑装饰等领域有着广泛的应用。

化学抛光的原理是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。

化学抛光可以靠化学抛光液的自发化学反应，在不借助电力和人力的条件下，自动把待抛光的工件提高表面光洁度，可以达到镜面效果。我们也可以简单的理解：化学抛光就是用化学把东西变亮。

化学抛光是靠化学***的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。化学抛光设备简单，能够处理细管、带有深孔及形状复杂的零件，生产。化学抛光可作为电镀预处理工序，也可在抛光后辅助以必要的防护措施直接使用。

为了进行化学抛光，必须使零件表面的凸部比凹部优先溶解，因此应将化学抛光的作用分为两个阶段来认识。

半导体材料的化学抛光，如锗和硅等半导体基片在机械研磨平整后，还要终用化学抛光去除表面杂质和变质层。常用和、***混合溶液或和氢氧化铵的水溶液。

化学抛光时，溶解速度随着抛光液温度的提高而显著地增加。此外，强氧化性酸（如浓、等）在高温时氧化作用也会显著提高。化学抛光中往往产生氢气，这是抛光具有氢脆敏***材料时必须注意的问题。另外，抛光液温度高达100～200℃时，还会产生退火作用。为了把氢脆和退火作用的影响减小到低，就必须在适宜的温度范围内选择尽可能短的抛光时间。

在化学抛光时，由于这些酸的溶解和氧化作用会同时发生，故多数情况下都是把抛光液加热到较高温度再进行化学抛光。需要提高温度再进行化学抛光的金属有钢铁、镍、铅等，若温度低于某一定值，就会出现无光的腐蚀表面，故存在一个形成光泽面的临界温度，在临界温度以上的一定温度范围内，抛光效果好。