化学抛光的原理：金属试样表面各组成相的电化学电位不同，形成了许多微电势，在化学溶液中会产生不均匀溶解。在溶解过程中试样面表层会产生一层氧化膜，试样表面凸出部分由于粘膜薄，金属的溶解扩展速度较慢，抛光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能达到十分理想的要求。

在化学抛光过程中，金属零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解，且前者要强于后者。由于零件表面微观的不一致性，表面微观凸起部位优先溶解，且溶解速率大于凹下部位的溶解速率；而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行，只是其速率有差异，结果使金属零件表面粗糙度得以整平，从而获得平滑光亮的表面。化学抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷，从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力。

化学抛光工艺有哪些特点？

首先，化学抛光设备简单，无需电源设备。其次，化学抛光工艺不受制件外形尺寸限制，抛光速度快，生产。因为这些原因，化学抛光工艺也使得加工成本低廉。

化学抛光的优点是：不需外加电源,可以处理形状更为复杂的零件,生产等.但是化学抛光的表面质量,一般略低于电解抛光,溶液的调整和再生也比较困难,往往抛光过程中会析出氧化氮等***气体。

为什么要选择化学抛光，而不是机械抛光或电抛光？

答：（1）可用于机械抛光甚感困难或无法加工的制件。如形状、结构比较复杂，具有不规则凹、凸结构的制件，狭小缝隙或孔洞的内表面，精细薄小的制件等。

（2）一般为简单的手工操作，操作方法简单，容易掌握。

（3）抛光后的制件，表面粗糙度非常均匀一致，其均匀性超过机械抛光和电抛光。

（4）作业时劳动强度小，无噪声和粉尘污染。

被抛光表面的光亮度，可通过选用不同的工艺规范来控制。对某些光亮度要求很高的制件，仅用化学抛光不容易达到要求，通常化学抛光的光亮度不及机械抛光，有时化学抛光后还需机械抛光。化学抛光前，必须对抛光制件进行清洗，包括除油污和除锈蚀。工艺的性较强。

化学抛光不只限于能获得光亮的金属表面，它还对金属的许多物理原化学性质及腐蚀性质有良好的影响。众所周知，化学抛光能改善金属的光学性质(反光系数或光反射率)和机械性能，减小金属之间的摩擦系数，提高金属在冷作状态下的塑性变形能力，增大某些磁性材料的导磁系数，消除冷发射现象等