彬力源节能公司致力于一体化污水处理解决方案的技术研发和市场推广，解决传统含氯消毒存在的安全、三致、二次污染环境等问题和弊端，纯水设备的安装与维护，污水的处理，及市场推广。如需了解请联系我们：

以下是太原彬力节能环保设备有限公司为我们提供的关于纯水设备的一些小知识

　全自动软化水处理设备特点：　　

1、设备全自动化，无需专人看守；　　

2、水处理的；　　

3、设备***，可放心使用；　　

4、可节约用水；　　

5、设备采用不锈钢材料，耐腐蚀。　　

适用范围广：软化水设备适用于工业锅炉、***空调、热交换器、宾馆饭店、食品化工、洗衣印染、卫生等需要软化水质，以防止垢类产生的的各种行业。自动控制软化水设备　　

反渗透膜分离系统的试运行

双级反渗透纯水设备运行前需确认的项目

双级反渗透纯水设备试运行前应首先确认预处理设备是否运行正常。当原水中的重要水质分析项目指标超出合适的基准时，有必要通过全部水质分析来确认原水的状态。在系统运行前需确认的具体内容如下：

1.原水水质：SDI、浊度、温度、pH、TDS、余氯等基本分析项目。

2.系统运行时原水的供给是否能满足纯水系统的运行。

3.系统内各预处理装置的运行状态是否能满足双级反渗透纯水设备的运行要求。

4.各***注入装置的运行状态及***注入量控制。

5.各计量仪表的校正及安装状态--即是否被校准并被正确安装。

6.异常高压及低压保护安全装置(即压力控制器)的设置与状态。

7.配管的连接部位及反渗透压力容器的固定状态。

8.反渗透高压泵的状态。

9.系统中使用的各阀门开闭状态(渗透水出口/浓缩水调节排放口)是否合适。

10.用于双级反渗透纯水设备的自动控制系统是否能正常工作。

11.安装在纯水系统中的各检测仪器及仪表是否正常。

工业超纯水设备的主要用途有哪些呢？

超纯水设备的主要用处：

1、电子产品的出产和清洗，如手机、电脑、平板等电子设备在出产过程中清洗水。

2、超纯材料和超纯***的出产和清洗。

3、电池产品的出产，电池在出产过程中部分工序需求用到的水。

4、电路板的出产和清洗，电脑、手机中的电路板在出产和清洗过程中所需求的水。

5、半导体产品的出产和清洗。

6、其他高科技精密产品的出产和清洗。

在晶体管、集成电路出产中，纯水首要用于清洗硅片，还有少数用于药液制造，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，制造电镀液等。集成电路出产过程中的80%的工序需求使用高纯水清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及出产成品率联系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压下降，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化，水中***高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器材功能变坏，水中的颗粒(包括***)如吸附在硅片外表，就会引起电路短路或特性变差。