佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家，公司秉承“以质取胜，求真务实，顾客至上”理念，欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.

镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响： 

基体温度：镀膜时基体温度直接影响膜层的结构、致密性和附着力，温度可用T/Tm值来确定，如；这种镀膜剂在使用中，j基团会被紫外线分解，附着在上面的硅元素也随之脱落。靶材为钛，其熔点为1670℃，基体温度应该选择TI/TM=0.15-0.25即 250-417℃才能得到理想的晶粒***。考虑到沉积粒子受负偏压作用加速轰击工件还会引起温升，基体可选在250-300℃

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镀膜时间：膜层厚度随镀膜时间的增加而增加,但不是线形增加,当厚度达到一定的时候,增加速度会变慢后基本停止,而且镀膜时间越长膜层应力越大.外观越差。

送气方式和气体流量：采用从少到多逐步增加气体流量的方式加气使膜层从金属逐渐过渡到化合物是很好的一种加气方式，如做黑膜这样还可以延缓靶，使颜色做得更深。

电子束蒸发源的优点为：①电子束轰击热源的束流密度高，能获得远比电阻加热源更大的能量密度。可以使高熔点（可高达3000°C以上）材料蒸发，并且能有较高的蒸发速度；②由于被蒸发材料是置于水冷堆锅内，因而可避免容器材料的蒸发，以及容器材料与蒸镀材料之间的反应，这对提高镀膜的纯度极为重要；真空镀膜之磁控溅射镀膜：磁控溅射的基本原理就是以磁场改变电子运动方向，束缚和延长电子的运动轨迹，从而提高了电子对工作气体的电离几率和有效地利用了电子的能量。③热量可直接加到蒸镀材料的表面，因而热，热传导和热辐射的损失少。