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真空镀膜之多弧离子镀 :
多弧离子镀又称电弧离子镀或阴极离子镀是以镀膜材料为阴极,阳极和真空室相连,阴极和阳极分别接到低压大电流直流电源的负极和正极。蒸镀时由于放电,在阴极表面上出现明亮的弧斑, 从而使阴极材料蒸发并电离, 形成金属等离子体。引弧电极与阴极靶表面接触和离开的瞬间,阴极和阳极之间形成稳定的自持弧光放电。考虑到沉积粒子受负偏压作用加速轰击工件还会引起温升,基体可选在250-300℃。
从镀膜的原理及特点看,真空蒸镀工件不带电,真空条件下金属加热蒸发沉积到工件表面,沉积粒子的能量与蒸发时的温度对应。溅射的工件为阳极,靶为阴极,利用原子的溅射作用把靶材原子击出而沉积在工件表面上,沉积原子的能量由被溅射原子的能量分布决定。离子镀的工件为阴极,蒸发源为阳极,进入辉光放电空间的金属原子离子化后奔向工件,并在工件表面沉积成膜,沉积过程中离子对基片表面、膜层与基片的界面以及膜层本身都发生轰击作用,粒子的能量决定于阴极上所加的电压。热反射镀膜玻璃具有各种各样的颜色,热反射玻璃有以下特点:1能有效控制太阳直接辐射能的入射量。
电子束蒸发源的优点为:①电子束轰击热源的束流密度高,能获得远比电阻加热源更大的能量密度。可以使高熔点(可高达3000°C以上)材料蒸发,并且能有较高的蒸发速度;因此在形成高密度等离子体的异常辉光放电中正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效,同时受正交电磁场的束缚的电子只能在其能量将要耗尽时才能沉积在基片上。②由于被蒸发材料是置于水冷堆锅内,因而可避免容器材料的蒸发,以及容器材料与蒸镀材料之间的反应,这对提高镀膜的纯度极为重要;③热量可直接加到蒸镀材料的表面,因而热,热传导和热辐射的损失少。
现有镀膜工艺,多数均要求事先对工件进行严格清洗,既复杂又费事。然而,离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用,并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果,能使镀层直接贴近基体,有效地增强了附着力,简化了大量的镀前清洗工作。
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