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真空镀膜之磁控溅射镀膜 ：磁控溅射的基本原理就是以磁场改变电子运动方向， 束缚和延长电子的运动轨迹， 从而提高了电子对工作气体的电离几率和有效地利用了电子的能量。因此在形成高密度等离子体的异常辉光放电中正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效，同时受正交电磁场的束缚的电子只能在其能量将要耗尽时才能沉积在基片上。这就是磁控溅射具有 “低温”、“高速”两大特点的机理。辉光放电是在10-2Pa-10Pa真空度范围内，在两个电极之间加上高压时产生的放电现象。

电子束蒸发源蒸镀法

将蒸发材料放入水冷铜坩锅中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。

离子镀工艺则有所不同，虽然也是在真空罩内进行的，但这时镀膜过程是以电荷传递的形式来实现的。也就是说，蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极（即工件）的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。相当于一个从g中射出的高速弹l头，可以穿入靶体很深，在工件上形成一种附着牢固的扩散镀层。通过镀膜可以改变基片的某些属性，如光学性能、电学性能、机械性能、化学性能、装饰性能等。

有机镀膜与无机镀膜的根本区别,目前市场上被称作玻璃系镀膜或石英结晶镀膜的产品几乎都是以含j基的硅氧烷树脂(methylsiloxane）为主要成分的镀膜，镀膜硬化后（有些镀膜甚至无法达到完全硬化），成份中含有大量j基团（CH3），实质为有机硅树脂。这种镀膜剂在使用中，j基团会被紫外线分解，附着在上面的硅元素也随之脱落。这类镀膜剂所标称的耐久性也仅相当于树脂涂层的耐久性，根本无法与不会学化的纯无机糖瞄相捏并论。真空镀膜之多弧离子镀：多弧离子镀又称电弧离子镀或阴极离子镀是以镀膜材料为阴极,阳极和真空室相连,阴极和阳极分别接到低压大电流直流电源的负极和正极。