真空镀膜主要分为装饰镀和功能镀膜两大类。真空镀膜在颜色多样性、结构设计、性能多样性及应用领域等方面不断突破。真空镀膜膜层的结构设计也日趋复杂。从传统的单一膜层到多层的复合，提升了膜层的各项性能。应用领域的突破，除了用于传统手表、首饰、手机等用于装饰外，PVD真空镀膜在、航天航空、新能源汽车等多个领域得到迅速的发展。

真空镀膜广泛运用在每个领域之中，在其中不缺机械设备、电子器件、五金、航天航空、化工厂等行业。真空镀膜技术性能优良:涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能良好,孔隙率低,而且无氢脆现象,相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。膜层具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点、表面细腻光滑并富有金属光泽同时颜色均匀一致，大幅度提高工件的外观装饰性能。膜层颜色类型多种多样，表面细致光洁，颇具金属质感，不容易褪色。LED灯反光杯镀膜加工

镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。

成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。

镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。