镀膜技术应用的运用具体可分为两种方式:装潢镀一层薄薄的膜和工具镀一层薄薄的膜。装潢镀的目标主要是因为提升铸件的外型线条装饰能和颜色搭配同时使铸件更抗磨损防腐蚀延长时间其使用周期;这行具体运用机电行业的科技领域,如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业领域。镀膜的目标主要是因为提升铸件的单单从表面硬度和抗磨性,降低单单从表面的拉伸强度,提升铸件的使用周期。

镀膜(阴离子镀一层薄薄的膜)技术应用的主要特点和优势：膜层与铸件单单从表面的导电率强,越来越耐用和抗磨损（要除掉镀一层薄薄的膜）

摩擦系数较低，耐腐蚀性较好，耐磨性和抗冲击性良好。阴极电弧离子镀具有高的靶电离率和强的膜基键合力的优点，但是在沉积过程中产生了许多大颗粒，这影响了膜的表面粗糙度。磁控溅射具有成膜粗糙度小，无大颗粒，光滑均匀的特点。然而，反应磁控溅射具有高反应性气体或金属靶的电离率，并且所获得的膜往往具有许多空隙和缺陷，这倾向于导致不充分和致密的膜结构和差的耐腐蚀性。目前，两种技术主要用于去除大颗粒污染。第二种是在运输过程中对液体颗粒进行磁过滤。过滤阴极真空电弧沉积是一种磁场，引导等离子体绕过障碍物，而大颗粒由于电中性而与障碍物碰撞，从而去除大颗粒并避开薄膜。

镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。

镀膜原理是什么？其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。

镀膜的属性

金属外观 颜色均匀一致 耐久的表面，在各种基本的空气和直射阳光环境条件下保持良好外观。颜色深韵、光亮。

经济，可减少清洗和擦亮电镀黄铜或金色所必须的时间和成本。使用一块软布和玻璃清洁剂即可清洁干净PVD膜层。