真空镀膜就是指在真空下，将某类金属材料或金属化合物以液相的方式沉积到原材料表面（一般 是非金属材质），归属于物理学液相沉积加工工艺。

真空镀膜的作用是各个方面的，这也决策了其运用场所比较丰富。整体而言，真空镀膜的关键作用包含授予被镀件表面高宽比金属质感和镜面玻璃实际效果，在塑料薄膜原材料上使膜层具备优异的隔绝特性，出示出色的磁屏蔽材料和导电性实际效果。

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镀膜加工以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。

在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。

镀膜加工表面的清洗解决特别关键，会直接危及到工艺的产品质量。加工件进到真一定要保证镀前清洗干净，表面污染来源于产品工件在加工、传送、包裝过程中所黏附的各种各样粉尘、润滑油、 汽车机油、抛光蜡、植物油脂、汗渍等物，为了更好地防止加工全过程中产生的不良。

镀膜技术应用的运用具体可分为两种方式:装潢镀一层薄薄的膜和工具镀一层薄薄的膜。装潢镀的目标主要是因为提升铸件的外型线条装饰能和颜色搭配同时使铸件更抗磨损防腐蚀延长时间其使用周期;这行具体运用机电行业的科技领域,如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业领域。镀膜的目标主要是因为提升铸件的单单从表面硬度和抗磨性,降低单单从表面的拉伸强度,提升铸件的使用周期。

镀膜(阴离子镀一层薄薄的膜)技术应用的主要特点和优势：膜层与铸件单单从表面的导电率强,越来越耐用和抗磨损（要除掉镀一层薄薄的膜）

摩擦系数较低，耐腐蚀性较好，耐磨性和抗冲击性良好。阴极电弧离子镀具有高的靶电离率和强的膜基键合力的优点，但是在沉积过程中产生了许多大颗粒，这影响了膜的表面粗糙度。磁控溅射具有成膜粗糙度小，无大颗粒，光滑均匀的特点。然而，反应磁控溅射具有高反应性气体或金属靶的电离率，并且所获得的膜往往具有许多空隙和缺陷，这倾向于导致不充分和致密的膜结构和差的耐腐蚀性。目前，两种技术主要用于去除大颗粒污染。第二种是在运输过程中对液体颗粒进行磁过滤。过滤阴极真空电弧沉积是一种磁场，引导等离子体绕过障碍物，而大颗粒由于电中性而与障碍物碰撞，从而去除大颗粒并避开薄膜。