惠州***真空镀膜反光杯服务至上「锦城镀膜」
作者:锦城镀膜2021/11/17 10:21:18






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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响: 

基体温度:镀膜时基体温度直接影响膜层的结构、致密性和附着力,温度可用T/Tm值来确定,如;镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:弧靶电流:弧靶电流越大,靶材蒸发量越大,靶面温度越高,冷却越差,弧靶产生的液滴大颗粒越多,膜层外观越差,膜层中的缺陷越多。靶材为钛,其熔点为1670℃,基体温度应该选择TI/TM=0.15-0.25即 250-417℃才能得到理想的晶粒***。考虑到沉积粒子受负偏压作用加速轰击工件还会引起温升,基体可选在250-300℃

离子轰击:指利用高能高密度的金属离子流和ya离子流对工件进行离子轰击清洗,能有效去除工件表面的氧化物;但需注意工件温升过热退火和轰出表面缺陷。

本底真空度: 本底真空度越高炉内杂气量(包括水气)越少,这保证镀膜时反应气体的纯度,从而保证膜层颜色的纯正和光泽鲜亮。一般本底真空应该进入5-7*10-3

镀膜玻璃常见外观缺陷

1。划伤(scratches):镀膜玻璃表面各种线状的划痕。可见程度取决于它们的长度、宽度、位置和分布。主要是由于镀膜玻璃表面和其它物体摩擦造成的。

2。暗道(dark stripe):从镀膜玻璃的反射方向看,膜层表面亮度或反射色异于整体的条状区域,可见程度取决于它们和周围膜层的亮度差。



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