真空镀膜定义真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。顾名思义真空镀膜是在真空状态下，一般指空气压强在10-1～l0-4Pa 范围，形成的薄膜层一般在l0 微米左右厚度。

阳极氧化：应用于金属反光杯。有效反光率不到真空镀铝的一半。优点是不怕紫外线、红外线的损害，甚至可以用水清洗。

UV镀膜有一项关键参数：流平时间，就是你每喷一层之后一定要给5~10分钟的时间让UV流平。再一个关键就是镀层必须均匀，手法要稳！看到有白雾说明稍微厚了些，急了些。要薄，匀！不能流挂！

目前在汽车车灯反射罩应用领域，已经完全采用在PC、BMC等塑料表面通过真空镀铝膜来提高反射效果，用于这一领域的UV涂料要求具有良好的流平性，高耐温性(用于PC基材要求120℃以上，BMC基材高达180℃以上)。

真空镀膜设备在集成电路制造中的应用

　　1.晶体管路中的保护层（SiO2、Si3N4）、多弧离子镀膜机电极管线（多晶硅、铜及其合金）等多是采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。可见气相沉积术制备集成电路的核心技术之一。

　　2.真空镀膜设备在传感器方面的应用

　　在传感器中，多采用那些电气性质相对于物理量、高真空镀膜机化学量及其变化来说，极为敏感的半导体材料。此外，其中大多数利用的是半导体的表面、界面的性质，需要尽量增大其面积，且能工业化、***格制作、因此采用薄膜的情况很多