增强真空镀膜附着力解决方案可采用真空等离子清洗机。此设备是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质，等离子清洗/刻蚀产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电磁场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体越来越稀薄，分子间距及分子或郭离子的自由运动距离也越来越长，受磁场作用，发生碰撞而形成等离子体，同时会发生辉光，等离子体在电磁场内空间运动，并轰击被处理物体表面，达到去除表面油污以及表面氧化物，灰化表面有机物，以及其它化学物质，从而达到表面处理、清洗和刻蚀效果，经过等离子处理后，可明显提高膜层附着力，有效提高产品合格率。

真空等离子清洗机主要应用于LED、LCD、连接器、键合前、微电子、电路板、镜片、半导体等大规模生产领域。

真空镀膜设备的应用

　1、真空镀膜设备在信息存储领域中的应用

　　真空蒸发镀膜机薄膜材料作为信息记录于存储介质，有其得天独厚的优势：由于薄膜很薄可以忽略涡流损耗；磁化反转极为迅速；车灯镀膜机与膜面平行的双稳态状态容易保持等。

　　2、 真空镀膜设备在光学仪器中的应用

　　人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀膜技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。

真空镀膜设备在集成电路制造中的应用

　　1.晶体管路中的保护层（SiO2、Si3N4）、多弧离子镀膜机电极管线（多晶硅、铜及其合金）等多是采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。可见气相沉积术制备集成电路的核心技术之一。

　　2.真空镀膜设备在传感器方面的应用

　　在传感器中，多采用那些电气性质相对于物理量、高真空镀膜机化学量及其变化来说，极为敏感的半导体材料。此外，其中大多数利用的是半导体的表面、界面的性质，需要尽量增大其面积，且能工业化、***格制作、因此采用薄膜的情况很多