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真空镀膜的物理过程

PVD（物理qi相沉积技术）的基本原理可分为三个工艺步骤：

（1）    镀料的气化：即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源

（2）   镀料粒子（（原子、分子或离子）的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞，产生多种反应。

（3）   镀料粒子在基片表面的沉积

真空镀膜的功能主要是赋予被镀件表面具有高度的金属光泽和镜面效果，尤其在车灯罩方面有很重要的聚光效果，其次是赋予镀膜层出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。

真空镀膜根据镀膜气相金属产生的方式和沉积方式的不同，分为热蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法两种工艺。其中，磁控溅射法由于镀膜层和基材的结合力强，镀膜层致密、均匀等优点，更具有技术优势。

真空镀膜材料以金属和金属氧化物为主。镀膜工艺流程：所需设备产品：所用设备：美容工具车、封釉机、封釉海绵、纳米毛巾，棉签、平面海绵、波浪海绵所用产品：增艳剂、密封剂、镜面光滑剂、镀膜产品、活性促进剂，轮胎上光剂。金属型镀膜材料有铝、锡、铟、钴、镍、铜、锌、银、金、钛、铬、钼、钨等；合金型镀膜材料有镍-铬、镍-铁、铁-钴、金-银-金等；金属化合物有二氧化硅、二氧化钛等。其中，尤以铝应用***多***普遍。这主要因为铝蒸发温度低、易操作、铝镀层对塑料附着力好、对紫外线和气体阻隔性强、价格低廉。