PR1 2000A1光刻胶报价免费咨询「赛米莱德」
作者:赛米莱德2022/8/26 4:44:29






光刻胶的参数介绍

1.对比度(Contrast)

对比度指光刻胶从***区到非***区过渡的陡度。 对比度越好,越容易形成侧壁陡直的图形和较高的宽高比。

2.粘滞性/黏度 (Viscosity)

衡量光刻胶流动特性的参数。黏度通常可以使用光刻胶中聚合物的固体含量来控制。同一种光刻胶根据浓度不同可以有不同的黏度,而不同的黏度决定了该胶的不同的涂胶厚度。

3.抗蚀性(Anti-etching)

光刻胶必须保持它的粘附性,在后续的刻蚀工序中保护衬底表面。耐热稳定性、抗刻蚀能力和抗离子轰击能力。  

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光刻胶:半导体技术壁垒的材料之一

光刻是整个集成电路制造过程中耗时长、难度大的工艺,耗时占IC制造50%左右,成本约占IC生产成本的1/3。光刻胶是光刻过程重要的耗材,光刻胶的质量对光刻工艺有着重要影响。

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光刻胶的应用

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。

期望大家在选购光刻胶时多一份细心,少一份浮躁,不要错过细节疑问。想要了解更多光刻胶的相关资讯,欢迎拨打图片上的***电话!!!



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