微弧氧化技术的优势

1．微弧氧化工艺稳定且可靠，设备简单，反应在常温下进行，操作方便，易于掌握。

2．微弧氧化膜有良好的耐磨损性能。

3．微弧氧化膜有良好的耐热性及抗腐蚀性。这从根本上克服了铝、镁、钛合金材料在应用中的缺点，因此该技术有广阔的应用前景。

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微弧氧化除了所需电功率较大之外，微弧氧化工艺实际上并不算复杂，所使用的gui酸盐、磷酸盐、硼酸盐等电解质是环保***的，对铝材的要求也不高，不管是 6000系的航空级铝材，还是难以阳极氧化的含铜、含gui铝材都可以进行微弧氧化，并且能得到理想的陶瓷结晶层。微弧氧化在处理过程中会自动对制品表面进行抛光处理，一些粗糙的制品表面可以修复得平整光滑，在一定程度上也节省了后期成本。溶液温度浓度对微弧氧化膜层性能的影响1、微弧氧化溶液温度低时，氧化膜的生长速度较快，膜致密，性能较佳。

溶液温度浓度对微弧氧化膜层性能的影响

1、微弧氧化溶液温度低时，氧化膜的生长速度较快，膜致密，性能较佳。但温度过低时，氧化作用较弱，膜厚和硬度值都较低。

2、微弧氧化溶液温度过高时，碱性电解液对氧化膜的溶解作用增强，致使膜厚与硬度显著下降，且溶液易飞溅，膜层也易被局部烧焦或击穿。所谓以微弧氧化溶液的温度一定要控制好，这样才可以提高微弧氧化膜层的性能。

3、溶液酸碱度：酸碱度过大或过小，溶解速度都加快，氧化膜生长速度减慢，所以一般选择弱碱性溶液。

4、溶液浓度：溶液浓度对氧化膜的成膜速率、表面颜色和粗糙度都有影响。微弧氧化技术、微弧氧化生产线、微弧氧化电源

微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响

微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系，而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期，作用在膜层上的能量较低，产生的熔融物颗粒较少，膜层的表面粗糙度较低；随着时间的延长，膜层表面的能量密度逐渐增大，熔融的氧化产物增多，并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下，氧化物冷却凝固，并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中，产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多，从而增大了膜层表面的粗糙度。另外，在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程，因此，若时间足够长，膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。在手机中框，笔记本壳体，飞机的某些零部件，镁合金***器材等领域具有广泛的应用价值。