温度对微弧氧化的影响

       微弧氧化与阳极氧化不同，所需温度范围较宽。一般为10—90度。温度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且温度高，会形成水气。1、微弧氧化采用弱碱性溶液，对周围环境不造成污染，属于清洁加工工艺和环保型表面处理技术，微弧氧化中只放出氢气、氧气，对***无害。一般建议在20—60度。由于微弧氧化以热能形式释放，所以液体温度上升较快，微弧氧化过程须配备容量较大的热交换制冷系统以控制槽液温度。所以微弧氧化过程中一定要控制好温度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技术、微弧氧化电源

微弧氧化

       在微弧氧化过程中，化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在,因此陶瓷层的形成过程非常复杂,至今还没有一个合理的模型能全描述陶瓷层的形成。微弧氧化工艺将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域，克服了硬质阳极氧化的缺陷，极大地提高了膜层的综合性能。由于微弧氧化以热能形式释放，所以液体温度上升较快，微弧氧化过程须配备容量较大的热交换制冷系统以控制槽液温度。微弧氧化膜层与基体结合牢固，结构致密，韧性高，具有良好的耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘等特性。

微弧氧化技术应用前景

      微弧氧化技术具有很多优点，如工艺简单、不引入***物，符合当今清洁生产发展的要求，对要处理的零件形状没有特殊要求，特别是对异型零件、孔洞、焊缝的可加工能力强于其他表面陶瓷化工艺，因此微弧氧化技术在军事、航空、航天、铁路、机械、纺织、汽车、、电子、装饰等许多领域有广泛的应用前景。溶液组分：不同溶液体系对微弧氧化工业铝型材的生长速度、表面粗糙度、硬度、电绝缘性等均有影响。采用微弧氧化技术所制备的陶瓷膜同时具备了阳极氧化膜和陶瓷喷涂层两者的优点，可以部分替代阳极氧化膜和陶瓷喷涂的产品。