微弧氧化

       在微弧氧化过程中，化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在,因此陶瓷层的形成过程非常复杂,至今还没有一个合理的模型能全描述陶瓷层的形成。微弧氧化工艺将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域，克服了硬质阳极氧化的缺陷，极大地提高了膜层的综合性能。微弧氧化膜层与基体结合牢固，结构致密，韧性高，具有良好的耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘等特性。日照微弧氧化技术有限公司***从事微弧氧化技术的研发以及设备的生产销售，欢迎咨询订购。

       铝合金微弧氧化又称等离子体微弧氧化，等离子体陶瓷化或火花放电沉积技术。它是在普通阳极氧化基础上通过提升电压等措施发展起来的，是通过电解液与相应电参数的组合，在铝、镁、钛及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用，生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。为此微弧氧化膜的硬度和耐磨性都得到明显提高，其耐腐蚀性和电绝缘性也随之有较大的提高。随着电压的递增，逐步进入火花放电阶段，并通过瞬时高温烧结作用使氧化膜结构发生变化，生成陶瓷膜层。

微弧氧化技术应用前景

      微弧氧化技术具有很多优点，如工艺简单、不引入***物，符合当今清洁生产发展的要求，对要处理的零件形状没有特殊要求，特别是对异型零件、孔洞、焊缝的可加工能力强于其他表面陶瓷化工艺，因此微弧氧化技术在军事、航空、航天、铁路、机械、纺织、汽车、、电子、装饰等许多领域有广泛的应用前景。采用微弧氧化技术所制备的陶瓷膜同时具备了阳极氧化膜和陶瓷喷涂层两者的优点，可以部分替代阳极氧化膜和陶瓷喷涂的产品。微弧氧化技术的原理及特点微弧氧化陶瓷技术是一种在铝、镁、钛等轻金属合金表面原位生长陶瓷层的高新技术。

微弧氧化的优势

       微弧氧化是一种直接在有色金属表面原位生长陶瓷层的新技术，微弧氧化技术是近十几年在阳极氧化基础上发展起来的，但两者在机理上、工艺上以及膜层性能上都有许多不同之处。所谓等离子体就是由大量的自由电子和离子组成，且在整体上表现为电中性的物质，它被称为固态、气态和液态以外的第四态。处于热等离子态的物质具有强的导电性，且能量集中，温度较高，是一个高热、高温的能源。与传统的阳极氧化法相比，微弧氧化陶瓷膜与基体结合牢固，结构致密，具有良好的耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘等特性、具有广阔的应用前景。微弧氧化过程中有一个很大的优点就是外加电源突然中断时可以直接继续进行氧化，不需要除去工件上的氧化膜，也不必更换样品重新处理。