?微弧氧化工艺要求

      微弧氧化通过电源参数的灵活运用，微弧氧化电解液的特殊匹配，在钛合金零件表面原位制备微弧氧化陶瓷膜的强化处理，达到防腐、提高发射率、耐磨、高绝缘等性能要求。由于微弧氧化是在阳极氧化膜被电ji穿的基础上进行的，所以在探讨微弧氧化机理时我们要结合电ji穿理论的研究和发展，从而阐述微弧氧化基本原理。根据实际加工时的工况，如复杂形状工件、只对工件局部进行微弧氧化处理、大面积工件的表面微弧氧化处理等情况，可采取特殊的工装卡具及对工件进行局部采取屏蔽，大大提高工效和降低成本。微弧氧化工艺、微弧氧化电源、微弧氧化生产线

        微弧氧化处理形成的陶瓷氧化膜，与基体呈冶金结合，膜层致密，具有良好的耐磨、耐蚀性能。 氧化膜的硬度一般能达到600-1500HV(膜层厚度20-50μm），耐磨性能优于硬质阳极化膜及电镀硬铬。也可通过改变或调节电解液的成分使膜层具有某种特性或呈现不同颜色。封孔后耐盐雾试验水平可达2000小时以上。该氧化膜还具有良好的绝缘性，耐500V以上的高压冲击，且有效防止电偶腐蚀；氧化膜还具有良好的隔热特性，是铝合金活塞的首要选择。

       微弧氧化膜表面有很多微孔，多为盲孔。该***形貌，非常有利于后续涂装，它能使有机涂层深入氧化膜的微孔中形成“抛锚效应”，大大提高了有机涂层的结合力。总体上看，电ji穿理论经历了离子电流机理、热作用机理、机械作用机理以及电子雪崩机理等不同的发展阶段。微弧氧化处理工艺简单，流程短。不需要对工件进行复杂的前处理，氧化过程无污染。电解液成分以食品添加剂为主，***无害且长效，生产过程中无需更换。清洗废水可作为电解液补加水，处理过程基本无废水排放。