主要用途:氨的主要用途是氮肥、制冷剂、化工原料。
无机方面主要用于制氨水、液氨、氮肥(尿素、碳铵等)、、铵盐、纯碱。
有机方面广泛应用于合成纤维、塑料、染料、尿素等。
主要制法:合成氨的工艺分类:低压法、中压法、高压法。
几种合成氨的工艺流程:
美国 KBR 工艺
KBR 工艺一般多用在以为原料的大型合成氨装置中,也在煤化工中被广泛应用,采用卧式径向流氨合成塔内件,组合氨冷系统制冷。
净化装置出口的氢气与来自空分获得的高纯度氮尔比3:1进行混合,混合后的合成气在合成气压缩机内压缩到15.5MPa,进料与产物进行换热预热,然后进入合成反应器。出氨合成塔的反应气温度约 441.5 ℃,氨含量体积分数约 20.3%。塔出口的热量用于副产蒸汽或预热锅炉给水,回收热量后的气体进入热交换器预热合成气压缩机出口气体,再经水冷器、组合式氨冷器终冷却至0 ℃后进入氨分离器分离冷凝的液氨。分氨后的循环气经组合式氨冷器回收冷量后进入压缩机循环段与新鲜气汇合,重复上述循环。氨分离器分离出的液氨进入闪蒸槽,通过减压闪蒸出溶解的气体。闪蒸后的液氨送往冷冻工段,闪蒸出来的气体送往燃料气管网。
2、20-60MPa中压高温生成法
这种方法对于液氨厂家来说是经济实惠的一种生产液氨的方法。加入一定量的催化剂,将氨气与氮气混合制成。这种方法由于降低了对于压力和温度的要求,对于生产过程中使用的机器的要求也不是很高,所以这种方法使用较多。
03、10MPa低压高温生成法
将氨气与氮气混合加入一定量的催化剂,控制压力在10MPa左右,温度为400-450摄氏度,这种对于机器的要求很低,很容易实现。
超纯氨的分子式是分子式:NH3,超纯氨是微电子氮化硅掩蔽膜的主要原材料,其反应为: 750—850℃ :SiH4+NH3---Si3N4+H2+N2 ,850—900℃ :SiCl4+NH3---Si3N4+HCl+N2。虽然NH3在半导体制造用量不大,但在光电子领域、超纯氨是十分重要的原材料,NH3的质量好坏直接决定发光二极管(LED)的亮度,它的价格高低左右着LED的经济性。
高纯氨气***安全处理
氨气对***生理的影响氨无色具有强烈的刺激臭味,对***有较大的毒性。氨气慢性会引起慢性气管炎、等呼吸系统病,急性氨反映在咳嗽不止、憋气等。
(1)少量泄漏。
撤退区域内所有人员。防止吸入蒸气,防止接触液体或气体。处置人员应使用呼吸器。禁止进入氨气可能汇集的局限空间,并加强通风。只能在保证安全的情况下堵漏。泄漏的容器应转移到安全地带,并且仅在确保安全的情况下才能打开阀门泄压。可用砂土、蛭石等惰性吸收材料收集和吸附泄漏物。收集的泄漏物应放在贴有相应标签的密闭容器中,以便废弃处理。
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