南平化拋剂生产商来电垂询「昆山韩铝」
作者:昆山韩铝2022/4/13 21:13:55






化抛剂是一种浅色浑浊液体,主要成分为不锈钢蚀刻剂、缓蚀剂、光亮剂。

不锈钢化抛全称为不锈钢表 面化学抛光剂详细内容主要成分:不锈钢蚀刻剂、缓蚀剂、光亮剂、表面活性剂、不锈钢表面修复剂、缓冲剂等。适用范围:适用奥氏体、马氏体等多种不锈钢的表面化学抛光物理化学性质:蚀刻 剂>20%光亮剂>10%修复 剂>1.5%其他活性剂>4%特 性:本产品是一种新型的不锈钢化抛剂;药剂具特 殊的缓冲体系,抛光效能稳定。该产品使用简单、方便,抛光亮度易控制 ,可根据处理的温度和时间来控制,温度高则时间短,反之温度低则时间长。抛光后的产品亮度均匀 一致,且本药剂的处理温度为中温,无需加过高的温度。




抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,具有良好的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品超过原有的光泽。产品性能稳定、***,对环境无污染等优点。包括棘轮扳手、开口扳手,批咀、套筒扳手,六角扳手,螺丝刀等,铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后,再使用抛光剂配合振动研磨光饰机,滚桶式研磨光式机进行抛光。1、抛光剂投放量为(根据不同产品的大小,光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置);2、抛光时间:根据产品的状态来定;3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。




氧化抛光液氧化抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。适用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。




化学抛光的优缺点:

1:优点: 操作简便、快速,无需仪器。抛光后试样表面无变形层,可抛光经镶嵌后的试样,也可同时抛光试样的纵、横断面。化学抛光时兼有化学侵蚀作用,因此多数情况下能同时显示***,抛光结束之后可以观察***,不需再做侵蚀显示。

2:缺点:抛光液容易失效,溶液消耗快。抛光结果不是太佳,试样的棱角易受蚀损,抛光面易出现微小波纹起伏,高倍观察时受到影响








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