CMP技术的概念是1965年由Manto提出。该技术是用于获取高质量的玻璃表面，如望远镜等。1988年IBM开始将CMP技术运用于4MDRAM 的制造中，而自从1991年IBM将CMP成功应用到64MDRAM 的生产中以后，CMP技术在世界各地迅速发展起来。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。

化学抛光：

可用于仪器制造、铝型材铝质反光镜的制造,以及其他零件和镀层的装饰性加工.同电解抛光比较,化学抛光的优点是：不需外加电源,可以处理形状更为复杂的零件,生产等.但是化学抛光的表面质量,一般略低于电解抛光,溶液的调整和再生也比较困难,往往抛光过程中会析出氧化氮等***气体。其实这点现在的技术也已经解决，市面上有如两酸化学抛光高光光亮剂等抛光***，其不含，不会产生有危害的黄烟

铝化学抛光技术?

一、对铝制品表面进行机械抛光：bbs.cnal.com5?z4?n6?T#?]:?N8?p,?F3?^

1、机械抛光工序为：粗磨、细磨、抛光、抛亮、喷砂、刷光或滚光等，根据制表面的粗糙程度来适当采取不同的工序。???二、化学除油除膜：6?z,?R1?d3?w;?%?R1?w

化学除油除膜过程是借着化学反应和物理化学作用，除去制件表面的油污和自然氧化膜。化学除油除膜一般采用酸性除油除膜剂AC。:?b#?^#?﹨4??;?b7?s2???使用条件：?

1、浓度：2-7%6?d2?X)?r*?M??G8?M

2、工艺条件：?温度：20-30℃?时间：2-10min???酸洗液的配方：中国铝业论坛$?V:?n'?e'?^2?h8?L8?N3?c

浓硝液200~270ML/L中国铝业论坛;?j'?{&?[%?X-?b5?d

温度：室温时间：1-3min?

除去含合金制件表面氧化膜和硅浮灰的酸洗液配方：9?R9?F9?G9?r8?~9?P'?i

浓3体积；浓1体积。???温度：室温?时间：5-15min:?r7?T0?_-?a+?m1?H0?u

铝及铝合金制件经化学酸洗后，必须立即用流动温水和冷水清洗，以除去残酸，然后浸入水中，以备化学抛光。

铝及铝合金产品因具有特殊的性质，因此应用相当广泛，在五金市场中占有极其重要的地位，铝制品在表面处理中要进行抛光，这不仅使铝制品的外观具有光亮的外表，而且均匀光滑的表面可以分散降低腐蚀介质的吸附，提高抗蚀性能。对于一般要求不很高的产品一般采用化学抛光，这样既能节省劳力又能节省电，但是目前采用的化学抛光液中含有造成对环境的污染，为了化学抛光处理过程对环境造成的污染和对***造成的危害问题，特对传统的化学抛光进行了改良，生产出来了无黄烟化学铝合金抛光光亮剂。