真空镀膜加工的性能优势

去除或减少污染物将有利于获得良好真空，增加连接强度和气密性，提高产品的寿命和可靠性。真空镀膜设备成膜性能好，真空电镀设备涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。

镀膜技术作为材料制备的新技术，已从实验室的探索性研究转而应用于大规模的工业生产，并且正在向各个行业中渗透,其应用范围和作用还正在不断地扩大和深化。这种新技术不仅涉及到物理学、化学、结晶学、表面科学和固体物理等基础学科，还和真空、冶金和化工等技术领域密切相关。

镀膜材料如何进行镀膜的？

将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

镀膜一般金属材料电镀出来的膜厚度大概是3-5微米。光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。早期使用的是光控测试，现在一般用晶振片，使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度。不同膜层的厚度不同。

在电子学方面真空镀膜更占有较为重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件( CCD )也都甬道各种薄膜。

在元件方面，在真空中蒸发镍铬，铬或金属陶瓷可以制造电阻，在塑料上蒸发铝、一氧化硅、二氧化钛等可以制造电容器，蒸发硒可以得到静电复印机用的硒鼓、蒸发钛酸钡可以制造磁致伸缩的起声元件等等。真空蒸发还可以用于制造超导膜和惯性约束巨变反应用的微珠镀层。

有机化学液相沉积（CVD）。它是以化学变化的方法制做塑料薄膜，基本原理是一定溫度下，将带有制膜原材料的反映汽体通到基片上并被吸咐，在基片上造成化学变化产生核，接着反映反应物摆脱基片表层持续外扩散产生塑料薄膜。束流沉积镀，融合了离子注入与液相沉积镀膜技术性的正离子表层复合型解决技术性，是一种利用离化的颗粒做为蒸镀原材料，在较为低的基片溫度下，产生具备优良特点塑料薄膜的技术性。