一代光学镀膜原理

抗磨损膜始于20世纪70年代初，当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高，而有机镜片则太软所以容易磨损。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面，形成一层非常硬的抗磨损膜，但由于其热胀系数与片基材料的不匹配，很容易脱膜和膜层脆裂，因此抗磨损效果不理想。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

二代光学镀膜原理

　　20世纪80年代以后，研究人员从理论上发现磨损产生的机理不仅仅与硬度相关，膜层材料具有“硬度/形变”的双重特性，即有些材料的硬度较高，但变形较小，而有些材料硬度较低，但变形较大。第二代的抗磨损膜技术就是通过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬度高且不易脆裂的材料。真空镀膜工艺涂层操作工艺非常简单，只需要将线路板在纳米液中浸泡1-3秒，取出后常温下晾置1-3分钟即可达到IPX5级防水，材料完全符合ROHS，REACH认证，符合环保标准，是电子产品防水防潮的选择。

随着信息产业的不断发展，磁性元件越来越趋向于小型化，3-5㎜的软磁芯，2-3㎜的稀土永磁材料，甚至尺寸更小的磁材都不断被应用，对磁材的防护提出了新的要求。小型软磁芯作饶线器件时，经聚对二涂敷后能耐1500-2000V甚至更高的电压，由于聚对二摩擦系数低，饶成操会更滑溜，不伤线，更便于操作，稀土钕铁硼永磁材料是一种强磁材料，但这种材料在空气中很不稳定，尺寸较大的通常用电镀或环氧电泳漆作防护涂层，尺寸较小的磁材，特别是环型和筒形的磁材，已不能用上述传统方法实现可靠防护，满足使用要求。而ABS塑胶因其结构上的优势，不仅具有优良的综合性能，易于加工成型，而且材料表面易于侵蚀而获得较高的镀层结合力，所以目前在电镀中应用普遍。Parylene独特的制备工艺和优异性能相结合，使它能对小型超小型磁材进行无薄弱点全涂敷的磁材可浸盐酸10天以上不腐蚀，目前国际上小型超小型磁材，几乎都采用Parylene作绝缘和防护涂层。

       纳米镀膜主要的成分是从石英砂中提纯的纳米级别的二氧化硅,其单晶分子大小达到8-10nm,作用原理是,手机的镜面虽然在肉眼的观察下是平整的,但是实际表面是有很多分子的缝隙,我们就利用这种超微观的纳米二氧化硅来填充这些分子的缝隙从而达到提高屏幕密度硬度。可以有效提高屏幕的光滑度，提升手机屏幕画质，色彩更逼真，触控格更灵敏。无论是那种纳米手机镀膜，期主要成份都是二氧化硅。真空电镀适用范围较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品。也就是液体玻璃。