真空镀膜技能一般分为两大类，即物***相堆积（PVD）技能和化学气相堆积（CVD）技能。

物***相堆积技能具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。

化学气相堆积技能是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供应基体，凭借气相作用或基体外表上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的办法，主要包含常压化学气相堆积、低压化学气相堆积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相堆积等。

　20世纪70年代，在物体外表上镀膜的办法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体外表上，因而这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，并且薄膜厚度也难以控制。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜办法而发展起来的一种新型镀膜技能，一般称为干式镀膜技能。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸腾或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝结并堆积的办法，称为真空镀膜。

       真空镀膜涂层附着力的影响因素：

       首先一大因素就是材质，有些材质不适合做真空镀膜涂层，例如锌合金、铝和裸铜等，直接做真空镀膜会出现起泡、掉摸等附着力差的现象。

       其次附着力受产品表面的洁净度影响，如果产品表面的脏污、杂质或者披锋等没有清理干净，真空镀膜涂层就会附着在这些杂质上，一旦杂质掉落，涂层也随之剥落，我们称之为假附着。

       第三个影响因素就是基材的耐腐蚀性能，真空涂层虽细腻致密，但是基材缺陷并不能完全覆盖，基材腐蚀一般从缺陷处开始，基材一旦被腐蚀，膜层就成了中空状态或者直接随之剥落；第四个影响因素就是工艺的优良程度，沉积的温度、偏压等是否到位，沉积的膜层应力是否过大等等；产品在非常特殊的环境下使用，而这种环境又超出真空镀膜涂层能承受的范围。