镀膜材料一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

真空镀膜主要利用辉光放电将气离子撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。

真空镀膜加工是利用化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。

首先在光学方面，一块光学玻璃或石英表面上镀一层或几层不同物质的薄膜后，即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者作任何预期比例的反射或透射材料，也可以作成对某种波长的吸收，而对另一种波长的透射的滤。

       高频感应蒸发源蒸镀法：

       高频感应蒸发源是将装有蒸发材料的石墨或陶瓷坩锅放在水冷的高频螺旋线圈***，使蒸发材料在高频带内磁场的感应下产生强大的涡流损失和磁滞损失（对铁磁体)，使蒸发材料升温，直至气化蒸发。

       优点：

      1、蒸发速率大，可比电阻蒸发源大10倍左右。

      2、蒸发源的温度均匀稳定不易产生飞溅现象。

      3、蒸发材料是金属时，蒸发材料可产生热量。

      4、蒸发源一次装料，无需送料机构，温度容易控制，操作简单。