真空镀膜加工适用于那些地方

眼镜镀膜常用***:二氧化锆(ZrO?)、二氧化硅(SiO?)、ITO(添加镜片导电抗紫外线)、HT-100(防水膜，防止老化和氧化)……

镀膜原理:高电压电子将以上几种***汽化，均匀分布在镜片外表。

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技能为基础，使用物理或化学办法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技能，为科学研究和实践出产供应薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸腾或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝结并堆积的办法，称为真空镀膜。

真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。

真空蒸镀：其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。

溅射镀膜:溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。

请问什么是PVD?

PVD是英文Physical Vapor Deition的缩写，中文意思是“物***相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

请问PVD镀膜的具体原理是什么?

离子镀膜(PVD镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

       真空镀膜技术是在真空条件下采用物理或化学方法，使物体表面获得所需的涂层，目前已被广泛应用于耐酸、耐蚀、耐热、表面硬化、装饰、润滑、光电通讯、电子集成、能源等领域。真空镀膜技术也是PVD涂层的常用制备方法，如真空蒸发、溅射镀膜和离子镀等通常称为物***相沉积法（PVD），是基本的涂层制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以真空技术是涂层制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。