真空镀膜加工的性能优势

去除或减少污染物将有利于获得良好真空，增加连接强度和气密性，提高产品的寿命和可靠性。真空镀膜设备成膜性能好，真空电镀设备涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。

镀膜技术作为材料制备的新技术，已从实验室的探索性研究转而应用于大规模的工业生产，并且正在向各个行业中渗透,其应用范围和作用还正在不断地扩大和深化。这种新技术不仅涉及到物理学、化学、结晶学、表面科学和固体物理等基础学科，还和真空、冶金和化工等技术领域密切相关。

真空镀膜的方法材料：

(2)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。

(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

光学镀膜方法材料

(1)氟化镁：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。

(2)二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

真空镀膜技能一般分为两大类，即物***相堆积（PVD）技能和化学气相堆积（CVD）技能。

物***相堆积技能具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。

化学气相堆积技能是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供应基体，凭借气相作用或基体外表上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的办法，主要包含常压化学气相堆积、低压化学气相堆积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相堆积等。

       高频感应蒸发源蒸镀法：

       高频感应蒸发源是将装有蒸发材料的石墨或陶瓷坩锅放在水冷的高频螺旋线圈***，使蒸发材料在高频带内磁场的感应下产生强大的涡流损失和磁滞损失（对铁磁体)，使蒸发材料升温，直至气化蒸发。

       优点：

      1、蒸发速率大，可比电阻蒸发源大10倍左右。

      2、蒸发源的温度均匀稳定不易产生飞溅现象。

      3、蒸发材料是金属时，蒸发材料可产生热量。

      4、蒸发源一次装料，无需送料机构，温度容易控制，操作简单。