如何测量真空镀膜机的厚度?

理想的膜厚是基片表面与膜表面之间的距离。在薄膜形态的三维测量中，其他二维测量相对于薄膜厚度可以说是大的。由于实际表面是不均匀、不连续的，而且膜内部可能存在气孔、杂质、晶格缺陷、表面吸附分子等，实际上很难严格定义和准确测量膜的厚度。薄膜厚度的定义取决于寻址方法和寻址目的。因此，相同的薄膜，采用不同的测量方法会得到不同的结果，即不同的厚度。

影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

磁场不均匀的影响

由于实际的磁控溅射装置中电场和磁场不是处处均匀的，也不是处处正交的，都是空间的函数。写出的三维运动方程表达式是不可解的，至少没有初等函数的解。所以磁场的不均匀性对离子的影响，也即对成膜不均匀性的影响是难以计算的，好的方法就是配合实验具体分析。图1是用中频孪生靶柔性卷绕磁控溅射镀膜装置实验得出的靶磁场均匀性和成膜厚度均匀性的对应关系。

真空镀膜机需要考虑哪些因素

1.炉体可用不锈钢、碳钢或其组合材料制成。

2.根据工艺要求，选择不同规格和型号的镀膜设备，包括电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。

3.夹具操作有旋转、旋转和旋转+旋转模式。用户可根据基板的尺寸和形状提出相应的要求。转速范围及精度：普通可调和变频调速。