真空镀膜技术一般分为两大类，即物***相堆积（PVD）技术和化学气相堆积（CVD）技术。

物***相堆积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀细密、薄膜厚度可控性好、运用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分安稳的合金膜和重复性好等长处。一同，物***相堆积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因而可作为Z终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。

真空镀膜加工适用于那些地方

镀膜常用在相机镜头、近视、老花镜等纠正眼镜上运用。

镀膜是在外表镀上非常薄的通明薄膜。目的是希望削减光的反射，添加透光率，抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同色彩的镀膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，镀膜尚可推迟镜片老化、变色的时间。

      镀膜原理:高电压电子将以上几种***汽化，均匀分布在镜片外表。

真空镀膜技能在塑料制品的运用上Z为广泛。塑料具有易成型，成本低，质量轻，不腐蚀等特点，因而塑料制品运用广泛，但因其缺点制约了扩大运用，如不漂亮、易老化、机械性能差、耐热差、吸水率。经过真空镀膜技能的运用，使塑料外表金属化，将有机资料和无机资料结合起来，大大进步了它的物理、化学性能。

真空镀膜技能长处主要表现在以下几个方面：

一、改进漂亮，外表光滑，金属光泽五颜六色化，装修性大大进步；

二、改进外表硬度，原塑胶外表比金属软而易受损害，经过真空镀膜，硬度及耐磨性大大添加；

相对性于传统式镀膜方法，真空镀膜运用归属于一种干试镀膜，它的关键方式包含下列几类：真空蒸镀其基本原理是在真空标准下，用空调蒸发器电加热带挥发化学物质，使其汽化或提升，挥发离子流立即射向基片，并在基片上沉积进行析出固体塑料薄膜的技术性。磁控溅射镀膜磁控溅射镀膜是真空标准下，在负极接好2000V直流电，激起电弧放电，带正电荷的正离子碰撞负极，使其射出去分子，磁控溅射出的分子根据可塑性氛围沉积到基片上产生膜层。