真空镀膜加工的科学蒸镀

在气态质迁移时，为了保证膜层的质量，一般都是在真空镀膜加工或惰性气氛中进行，并施加电场、磁场或高频等外界条件来进行活化，以增加到达基底上的气态物质的能量，提供气态物质发生反应的能量，即提供气态物质反应的能。

薄膜在基底上的形成过程是一个复杂的过程，它包括:膜的形核、长大，膜与基底表面的相互作用等等。近年来，薄膜制作时还在基底上施加电场、磁场、离子束轰击等辅助手段，其目的都是为了控制凝聚成膜的质量和性能。根据成膜方法的基本。

　20世纪70年代，在物体外表上镀膜的办法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体外表上，因而这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，并且薄膜厚度也难以控制。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜办法而发展起来的一种新型镀膜技能，一般称为干式镀膜技能。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸腾或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝结并堆积的办法，称为真空镀膜。

真空镀膜加工都使用那些工艺

电镀：电镀一般分为很多类，今天我们特别来说两类Z常用而且反响较好的工艺   -----PVD镀膜和水电镀

真空镀膜操作:等待真空镀膜部件上架并装上钨丝，然后进入炉膛，检查接触是否良好，旋转正常，关闭真空镀膜真空室，抽真空。在真空室中，材料的原子与热源隔离，并撞击到镀物体的表面。真空镀膜加工中可以加工出来很多产品