真空镀膜加工的基本技能要求

5、离子镀堆积源的规划应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜资料的利用率，合理匹配堆积源的功率，合理布置堆积源在真空室体的位置。

6、合理布置加热设备，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。

7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的规划应使工件膜层均匀。

8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具有***非正常放电设备，维持作业稳定。

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。

采用PVD真空镀膜处理,清除镀膜室内的尘埃，设置洁净度高的工作间，保持室内高度清洁，是镀膜工艺对环境的基本要求。在空气湿度大的地方，除镀前要对基片、真空室各部件仔细清洗外，还要进行烘烤除气。为了防止油进入真空室，应注意油扩散泵返油，对高热能的扩散泵必须采取挡油措施。

真空镀膜运用是真空运用中的一个大支系，在电子光学、电力电子技术、物理化学仪器设备、包裝、机械设备及其金属表面处理技术性等诸多层面拥有 十分普遍的运用。真空镀膜运用，简易地了解便是在真空自然环境下，利用蒸镀、磁控溅射及其接着凝固的方法，在金属材料、夹层玻璃、瓷器、半导体材料及其塑件等物件上镶上金属材料塑料薄膜或是是土壤层。

真空镀膜加工则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。