真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等，如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。

任何固体材料在大气环境下都会溶解和吸附一些气体，当材料置于真空状态时就会因为脱附、解析而出气。出气的速率与材料中的气体含量成正比。不同的材料解析的气体成分及解析的温度及时间是不同的。

真空镀膜技术一般分为两大类，即物***相堆积（PVD）技术和化学气相堆积（CVD）技术。

物***相堆积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀细密、薄膜厚度可控性好、运用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分安稳的合金膜和重复性好等长处。一同，物***相堆积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因而可作为Z终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。

真空蒸发镀膜设备用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品外表蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等金属）、七彩薄仿金膜等，然后取得亮光、漂亮、；价廉的塑料，陶瓷外表金属化制品。广泛使用于轿车、摩托车灯具、工艺美术、装潢装修、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、化妆品、手机、闹钟、女式鞋后跟等范畴。

一、真空电镀加工的镀层厚度均匀致密。 无论工件如何复杂，均可在工件上得到均一镀层，其镀层精度可达±1微米。

二、各种基体材料均可处理，包括金属、半导体及非金属。