真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发。

在进入镀膜室之前，工件须在电镀前仔细清洗。表面污染来源于加工、运输和包装过程中粘附在工件上的各种灰尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物质。为了避免加工过程中造成的缺陷。

东莞拉奇纳米科技有限公司,是将派瑞林(parylene)高分子材料裂解为纳米分子再进行产品表面的真空镀膜处理。使被镀物具备以下特性:无细孔、防水、防潮、耐酸碱、抗盐雾、高抗压、绝缘、生物兼容性等。

膜层抵抗力

耐腐蚀，抗酸且化学性能稳定，在常规环境下，户内或者户外，都具有，，不失去光泽并不留下痕迹的性能。正常情况的使用下不会破损，并且容易清除油漆和笔迹。在强烈的阳光，咸的湿地和城市环境下，都不变色，不氧化，不脱落和爆裂，膜层颜色种类繁多，表面细腻光滑，富有金属光泽，。耐磨程度高，耐刮擦，不易划伤，可电镀材料广泛，与基体结合力强。

真空镀膜加工是利用化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。

在电子学方面真空镀膜更占有较为重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件( CCD )也都甬道各种薄膜。