随着科技和经济的提升，各种类型各种镀膜工艺的真空镀膜设备在不断的增加，其功能也越来越完善。

真空镀膜设备普遍应用于工业生产，在与待镀工件形成薄膜的过程中，可以地测量和控制蒸发或溅射成膜材料的膜厚，从而保证膜厚的均匀性。磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。

磁控溅射镀膜机

各种镀膜技术都需要一个蒸发源或蒸发靶，以便将蒸发的成膜物质转化为气体。随着来源或目标的不断提高，电影制作材料的选择范围也大大扩大。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物，都可以气相沉积各种金属膜和介质膜，不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。

蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。膜厚可以测量和控制。磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。

真空镀膜机镀膜过程中，都要应用到电源，镀的基材不同，工艺不一样，设备配置也不一样，采用的电源，也就不一样。在实际镀膜过程中，该电源要能自动检测灭弧现象并自动引弧，保证镀膜过程中的连续性和膜层的均匀性；此外，电弧电源的稳弧性能尤其是小稳弧电流对膜层的一致性、效率性和光洁度影响很大。操作轻便，电流调节精度较高，稳流性能好，有利于控制膜厚及保证膜厚的重复性。