真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。

物***相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。

物***相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。

真空镀膜就是于真空室内，采用一定方法使材料凝聚成膜的工艺。

在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。

真空镀膜设备普遍应用于工业生产，无论是小产品还是大产品、金属制品还是塑胶制品、亦或者陶瓷、芯片、电路板、玻璃等产品，基本上所有需要进行表面处理镀膜的都需要用到。

真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜。

1.在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，须先开水管，工作中应随时注意水压。

2.在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电。

3.在用电子镀膜时，应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃要用铅玻璃，观察时应戴上铅玻璃眼镜，以防X射线侵害***。

4.镀制多层介质膜的镀膜间，应安装通风吸尘装置，及时排除***粉尘。

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面（通常是非金属材料），属于物***相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。大量应用于汽车、家电、日用包装、工艺装饰等工业领域。