真空镀膜技术一般分为两大类，即物***相沉积技术和化学气相沉积技术。

物***相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积的等离子化学气相沉积等。

真空镀膜加工是利用化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。

装饰真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置，在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（铝丝）熔融汽化，汽化了金属分子沉积于基片上，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。

真空镀膜是在真空中将金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,形成薄膜的一种表面处理过程。真空镀膜表面的清洗非常重要，直接影响电镀产品的质量。在进入镀膜室之前，工件须在电镀前仔细清洗。真空镀膜加工膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。纳米镀膜厂商

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。纳米镀膜厂商

真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。

虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污 染，是绿色环保工艺;对操作者无伤害。