真空镀膜技术之物***相沉积技术，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物***相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。

真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜。

1.在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，须先开水管，工作中应随时注意水压。

2.在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电。

3.在用电子镀膜时，应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃要用铅玻璃，观察时应戴上铅玻璃眼镜，以防X射线侵害***。

4.镀制多层介质膜的镀膜间，应安装通风吸尘装置，及时排除***粉尘。

真空镀膜设备普遍应用于工业生产，无论是小产品还是大产品、金属制品还是塑胶制品、亦或者陶瓷、芯片、电路板、玻璃等产品。

真空镀膜是一种由物理方法造成塑料薄膜原材料的技术性，在真空泵房间内原材料的分子从加温源混凝土离析出去打进被镀物件的表层上。后拓宽到别的作用塑料薄膜，装饰设计镀膜和原材料表层改性材料等。真空镀膜有三种方式，即挥发镀膜、磁控溅射镀膜和等离子喷涂。整体而言，真空镀膜的关键作用包含授予被镀件表层高宽比金属质感和镜面玻璃实际效果，在塑料薄膜原材料上使膜层具备优异的隔绝特性，出示出色的磁屏蔽材料和导电性实际效果。