真空镀膜技术一般分为两大类，即物***相沉积技术和化学气相沉积技术。

物***相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积的等离子化学气相沉积等。

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料。真空镀膜可以使原料具有许多新的、好的物理和分析化学特征。金属化学气相沉积

真空镀膜是应用物理分析化学方法，提高产品质量、提高产品使用期限。根据效果和基础表层的化学变化，在基础上制作金属材料和化学物质塑料薄膜的方式。金属化学气相沉积

真空镀膜表面的清洗非常重要，直接影响电镀产品的质量。

真空镀膜加工中真空镀膜技术是什么

真空镀膜技术一般分为两大类，即物***相堆积技术和化学气相堆积技术。

物***相堆积技术是指在真空条件下，运用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接堆积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物***相堆积方法制得，它运用某种物理进程，如物质的热蒸腾，或遭到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控搬运进程。

真空镀膜加工工艺中，要求装配到高真空环境的零件，事先都需要小心地进行清洗处理，否则各种污染物可成为大量气体和蒸气的来源，会大大延长真空器件的排气时间，不易获得高真空。