镀膜技术在集成电路制造中的应用 晶体管路中的保护层（SiO2、Si3N4）、电极管线（多晶硅、铝、铜及其合金）等多是采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。可见气相沉积术制备集成电路的核心技术之一。

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

装饰性真空镀的涂层一般分为底涂层和面涂层两种，它们主要起提高膜层的结合力，降低镀件表面的粗糙度，提高光亮度，保护金属膜层的作用。

真空镀膜设备对底涂层有何要求。

1、对镀件与镀膜层有良好的接触性能，热膨胀系数相差小，不起反应，流平性能好。

2、具有良好的真空性能。

3、成膜性能好，涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。

4、与面涂层有良好的相溶性。

5、施涂性能良好。流平性能良好，有适当的黏度、固化时间短。

真空镀膜设备有关构成及各部件：机械泵、增压泵、油分散泵、冷凝泵、真空丈量系统。

真空镀膜设备真空腔根据加工产品要求的各异，真空腔的大小也不一样.

机械泵：也叫前级泵，机械泵是应用的一种低真空泵，它是用油来保持密封效果并依靠机械的方法不断的改变泵内吸气空腔的体积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀从而获得真空.

真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，分子束外延，激光溅射沉积等很多种。玻璃纳米镀膜设备

真空镀膜机涂层材料与被加工材料之间的摩擦系数较小，所以真空镀膜机涂层刀具的切削力小于未涂层刀具。玻璃纳米镀膜设备

真空镀膜机表面涂层材料具有很高的耐磨性和硬度，且耐高温。和未涂层的刀具比，涂层刀具允许采用较高的切削速度，提高了切削加工效率，也提高了在相同的切削速度下刀具的寿命。玻璃纳米镀膜设备