派拉纶（Parylene）涂层工艺是使用化学气相沉积（CVD）工艺在真空下沉积的。派拉纶（Parylene）的（CVD）工艺分为三个步骤（升华，热解，沉积）。首先，将二聚体（具有两个重复单元的前体）升华。下一步，在高于＞ 500°C的温度下通过热解将二聚体裂解为两种单体。然后，单体在基材表面（以及腔室表面）上聚合，形成线性聚合物链。后一步在室温下进行，得到派拉纶（Parylene）保形涂层。通过的真空镀膜机，进行的镀膜加工生产。

       表面科学是在固体物理等许多科学基础上发展起来的新科学，其研究对象是各种各样的表面。真空镀膜技术为制造各种各样的清洁表面提供了手段。特别是20世纪70年代在真空镀膜基础上发展起来的分子束外延技术，用他不值可以特备可控制的超薄薄膜、原子级平整度的表面、上百层的叠加膜，而且还可以控制薄膜的成分和亚比。这些薄膜的制备均为科学的研究和发展提供了充分的条件。

       真空搜膜技术在其他科学领域中的应用亦很广泛。例如，电子显微镜的标本必须经过真空镀膜处理才能观察﹔激光器需要镀上精密控制的光学膜层才能使用;太阳能利用也与真空镀膜技术息息相关。

        首先采用深反应离子刻蚀制作微通道，然后沉积派瑞林涂层C在微通道上，同时派瑞林涂层沉积在纯铁片上，在其上制作金电极，在200℃真空箱内将派瑞林涂层键合，剥去纯铁片以及采用特殊工艺释放（Parylene）涂层微通道。通过控制（Parylene）涂层沉积的厚度，可以在相同的微通道上制作不同深宽比的派瑞林涂层微通道，同时也可以制作多层结构微通道。用此方法制作的各种微通道(所有微通道的内径为80μm宽、50μm深、壁厚为10μm)。通过此方法，可以快速低成本地制作派瑞林涂层微通道，并通过释放工艺可以获得很好的派瑞林涂层微通道，同时可以重复使用硅模，普遍用于气相色谱分析等微流体系统分析中。派瑞林涂层阻滞性佳，湿气及气体渗透性极低，具高屏障效果，抗酸碱性。