所有液压缸都必须安装防尘圈。活塞杆回程时，防尘圈将粘在其表面上的脏物刮掉，保护密封圈和导向套免受损伤。双作用防尘圈兼有辅助密封功能，其内侧唇边刮掉粘附在活塞杆表面上的油膜，从而提高密封效果。防尘密封圈对保护关键性的液压设备部件是重要的。渗入尘土，不仅磨损密封件，而且会大大的磨损导向套和活塞杆，杂质进入液压介质中，亦会影响操作阀和泵的功能，亦可能损伤这些装置。防尘圈能除掉活塞杆表面上的尘土，但不损坏活塞杆上的油膜，这对密封件的润滑也有益。防尘圈在设计时，不仅要适应活塞杆，还必须在沟槽中起密封作用。

浓度在5%以下时，钢、镍、黄铜的腐蚀速度随浓度的增加而增加；当浓度大于5%时，这些金属的腐蚀速度却随着浓度的增加而下降。这是因为，在低浓度范围内，氧含量随盐浓度的增加而增加；当盐浓度增加到5%时，氧含量达到相对的饱和，如果盐浓度继续增加，氧含量则相应下降。氧含量下降，氧的去极化能力也下降即腐蚀作用减弱。对于锌、镉、铜等金属，腐蚀速度却始终随着盐溶液浓度的增加而增加。

       PVD是物***相沉积的简称，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上真空镀膜。利用物理过程实现物质转移，在工件表面形成具有特殊性能的金属或化合物涂层，其特殊性能包括强度高、耐磨性、散热性、耐腐性、以及绝缘等。涂层的物质源是固态物质，利用气体放电或加热的方式使靶材蒸发或者电离，经过“蒸发或者溅射”后，在电场的作用下，在工件表面生成与基材性能不同的固态物质涂层。

       在日常的操作中，有些用户由于其操作不当导致镀膜效果欠佳的问题，在PVD真空镀膜过程中,镀膜机腔体内的压力波动将导致镀膜不均匀以及重复性欠佳。质量流量控制器控制反应气体的同时，采用压力控制器控制腔体内惰性气体的压力，从而提升终等离子气相沉积(PVD)的结果。

       离子源类型虽多，目的却无非在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。若是镀工具耐磨层，一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高，可采用离子电流较大能级也较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。

       阳极层离子源，与霍尔离子源原理近似。在一条环形（长方形或圆形）窄缝中施加强磁场，在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长，特别适合镀大工件，如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散，且能级分布太宽。一般适用于大型工件，玻璃，磨损，装饰工件。但应用于光学镀膜并不太多。