动态功能：一个有效的防尘圈，其唇口相对于活塞杆的接触力必须足够大。有相当高硬度的弹性材料易得到这种效果。硬度达94°的聚胺醋是特别适用于防尘圈的材料。其特性还包括高模量(硬度)，的耐磨性及低压缩性。这种材料可以应用在从-40°到100°温度范围的绝大多数应用场合。

　    静态功能：设计用于封闭式安装沟槽的无增强的单作用防尘圈，很难在沟槽中起到有效的密封作用。这是由于这种防尘圈在沟槽中是松配合安装的。只有密封唇与活塞杆的接触提供防尘圈与圆柱形表面的密封力。温度降低时，整个防尘圈收缩，其外径与沟槽之间的泄漏风险就会出现。要取得满意的效果，这种情况必然在防尘圈的设计中加以补偿。

PECVD(Pulse Enhanced Chemical Vaporized Deition，电浆辅助化学气相沉积)工法并配合密闭抽真空设备，所以纳米等级的涂层颗粒可以顺着整机产品的微小缝隙飘进并附着于整机产品内部的大多数角落位置，也因为涂层的缝隙比水分子还小，所以可以起到隔绝湿气对电子产品的影响。另外，由于涂层的厚度大概有5-50nm，弹簧类零件（如连接器）只要经过摩擦就可以轻易的刮除这些涂层，达到电气接触的目的。

派拉纶（Parylene）涂层工艺是使用化学气相沉积（CVD）工艺在真空下沉积的。派拉纶（Parylene）的（CVD）工艺分为三个步骤（升华，热解，沉积）。首先，将二聚体（具有两个重复单元的前体）升华。下一步，在高于＞ 500°C的温度下通过热解将二聚体裂解为两种单体。然后，单体在基材表面（以及腔室表面）上聚合，形成线性聚合物链。后一步在室温下进行，得到派拉纶（Parylene）保形涂层。通过的真空镀膜机，进行的镀膜加工生产。

派瑞林（PARYLENE）真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收了电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供了一种新的薄膜制备工艺。简而言之，金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射，从而可以沉积在被涂覆的物体(称为基底、衬底或基体)上

光学镀膜技术常用的方法是真空溅射镀膜玻璃基片，一般用来控制基片对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损耗，提高成像质量，涂覆一层或多层透明介质膜，称为减反射膜或减反射膜。